Wasserkühlung Impuls Periodische Umkehrung 415V Elektrolyse-Netzteil

Wasserkühlung Impuls Periodische Umkehrung 415V Elektrolyse-Netzteil

1. Das Grundprinzip der periodischen Rückpulsplattierung

Beim Pulsplattierungsverfahren erhöht sich mit dem Einschalten des Stroms die elektrochemische Polarisation, die Metallionen im Bereich der Kathode werden vollständig abgeschieden, und die Plattierungsschicht ist feinkristallin und glänzend. Beim Abschalten des Stroms kehrt die Konzentration der Entladungsionen im Bereich der Kathode auf den Ausgangswert zurück. Die Konzentrationspolarisation wird somit aufgehoben.
Die periodische Kommutierungspulsplattierung ist allgemein als Doppelpulsplattierung (bzw. bidirektionale Pulsplattierung) bekannt. Dabei wird nach einer Reihe von Vorwärtspulsen eine Reihe von Rückwärtspulsen angelegt. Die Vorwärtspulse dauern lange, die Rückwärtspulse hingegen kurz. Die durch die kurzen Rückwärtspulse verursachte, stark ungleichmäßige Anodenstromverteilung führt zu einer starken Auflösung und Abflachung der erhabenen Bereiche der Beschichtung. Die typische Pulswellenform der periodischen Kommutierung ist unten dargestellt.

Merkmale
Durch die Verwendung der Zeitsteuerungsfunktion ist die Einstellung einfach und bequem, und die Arbeitszeit für positive und negative Strompolarität kann je nach den Anforderungen des Beschichtungsprozesses beliebig eingestellt werden.
Es verfügt über drei Betriebszustände der automatischen Zykluskommutierung, positiv und negativ sowie umgekehrt, und kann die Polarität des Ausgangsstroms automatisch ändern.

Die Überlegenheit der periodischen Kommutierungs-Impulsplattierung
1. Der umgekehrte Impulsstrom verbessert die Dickenverteilung der Beschichtung, die Dicke der Beschichtung ist gleichmäßig und die Nivellierung ist gut.
2 Die Auflösung der Anode durch den Rückimpuls führt zu einem schnellen Anstieg der Konzentration von Metallionen auf der Kathodenoberfläche, was die Verwendung einer hohen Impulsstromdichte im nachfolgenden Kathodenzyklus begünstigt. Die hohe Impulsstromdichte bewirkt, dass die Bildungsgeschwindigkeit des Kristallkeims schneller ist als die Wachstumsgeschwindigkeit des Kristalls, sodass die Beschichtung dicht und glänzend mit geringer Porosität ist.
3. Durch das Rückpuls-Anodenabstreifen wird die Anhaftung organischer Verunreinigungen (einschließlich Glanzmittel) in der Beschichtung stark reduziert, sodass die Beschichtung eine hohe Reinheit und starke Beständigkeit gegen Verfärbungen aufweist, was insbesondere bei der Silbercyanidplattierung deutlich wird.
4. Der umgekehrte Impulsstrom oxidiert den in der Beschichtung enthaltenen Wasserstoff, wodurch eine Wasserstoffversprödung vermieden werden kann (beispielsweise kann der umgekehrte Impuls den während der galvanischen Abscheidung von Palladium mitabgeschiedenen Wasserstoff entfernen) oder die inneren Spannungen reduziert werden.
5. Durch den periodischen Rückstromimpuls bleibt die Oberfläche des beschichteten Teils stets aktiv, sodass eine Beschichtungsschicht mit guter Haftkraft erzielt werden kann.
6. Der Rückpuls trägt dazu bei, die tatsächliche Dicke der Diffusionsschicht zu verringern und die Kathodenstromausbeute zu verbessern. Daher kann durch geeignete Pulsparameter die Abscheidungsrate der Beschichtung weiter beschleunigt werden.
7 In einem Beschichtungssystem, das keine oder nur geringe Mengen an Additiven zulässt, kann durch Doppelpuls-Beschichtung eine feine, glatte und gleichmäßige Beschichtung erzielt werden.
Infolgedessen haben sich die Leistungsindikatoren der Beschichtung, wie Temperaturbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, Schweißbarkeit, Zähigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Leitfähigkeit, Beständigkeit gegen Verfärbungen und Glätte, exponentiell verbessert, und es können erhebliche Mengen an seltenen und wertvollen Metallen (etwa 20–50 %) und Zusatzstoffen (wie z. B. bei der Glanzsilbercyanidplattierung etwa 50–80 %) eingespart werden.